格物光学的紫外无掩膜光刻机BEAM可以随意进行纳米图案化，而无需缓慢且昂贵的光刻掩模。这种便捷操作有利于研究和快速原型制作。格物光学在保持原有性能的前提下，将其小型桌面化让用户使用更便捷，成本更低。
工作模式：光束引擎将紫外激光束聚焦到衍射极限点并扫描该 点以暴露光刻胶上的任意图案。为了曝光大晶片， 精密步进器移动晶片并允许缝合多次曝光。光束引 擎具有能够在最大 6 英寸晶圆上产生小于 (CD) 0.8µm 的特征。
产品优势：
1.袖珍
紫外无掩模光刻机：BEAM比台式电脑还小，性价比高。系统各个部分模
块化，可自由组合配置，为用户带来更灵活更实惠的最优选择。
2.强大
拥有亚微米分辨率，在不到两秒的时间内完成一个曝光图案的写入。
3.超快自动对焦
当与我们的闭环聚焦光学器件结合使用时，压电执行器在不到一秒的时间
内达到聚焦。
4.毫不费力多层对齐
半自动对齐允许在几分钟内完成多层对齐。
随附的软件可以快速完成任何图案工作；只需加载、对齐和曝光。导航类似于CNC系统。
在多层曝光期间， GDS图案被覆盖以进行可视化。 控制GUI(左窗口)有一个加载的GDS的小地图，允许通过一键导航到晶圆上的任何区域。
产品规格参数与手册
产品手册:
样品实例
硅衬底上的抗蚀剂微图案阵列。 每个单元为
50 × 63 µm，相邻图案之间的间距为 3 µm。
使用的抗蚀剂： AZ5214E
0.8 µm 锥形中间部分，侧面有 20 ✕ 90 µm 接触垫。
使用的抗蚀剂：AZ5214E
开环谐振器阵列。右侧的分离距离为1.5µm (箭头)，
左侧的分离距离为 2 µm。 外圈直径为 80 µm。
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